摘要：文章探究了光刻工序的水汽和ITO刻蚀工序的药液结晶对Dual Gate产品栅极制程的断路影响，通过DOE试验得到影响因子的最佳改善条件，使55寸Dual Gate产品栅极制程的断路缺陷发生率整体降低36%，为公司带来80.2万元（试读）...
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